LPICM

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LPICM

Laboratoires de Physique des Interfaces et des Couches Minces

CNRS / École polytechnique

Bâtiment 406 - Route de Saclay - 91128 Palaiseau Cedex

Site web

Activités

  • Thermal ALD

Famille de matériaux

  • Oxydes

Applications

  • Transition énergetique (catalyse, PV, batteries, piles à combustibles, nucléaire, ..)
  • Transition numérique: (écrans, capteurs, micro-electronique, Qubits, ...)

Réacteur(s) ALD

  • Picosun

Publication n°1

" Protective coatings for front surface silver mirrors by atomic layer deposition "

DOI : 10.1364/OE.388546

Publication n°2

" Detection of stable positive fixed charges in AlOx activated during annealing with in situ modulated photoluminescence "

DOI : 10.1016/j.solmat.2021.111172

Publication n°3

" Deleterious electrostatic interaction in silicon passivation stack between thin ALD Al2O3 and its a-SiNx:H capping layer: numerical and experimental evidences "

DOI : 10.1016/j.egypro.2017.09.328

Personnes impliquées

  • BULKIN Pavel