LMGP
Laboratoire des Matériaux et du Génie Physique
CNRS, Grenoble INP, UGA
Grenoble INP-Minatec - 3 parvis Louis Néel - CS 50257 - 38016 Grenoble cedex 1
Activités
- Thermal ALD
- PE-ALD
- Précurseurs
- Croissance, instrumentation in-situ
- Spatial ALD
- Molecular Layer Deposition
Famille de matériaux
- Oxydes
- Films métalliques
- Sulfures
Applications
- Transition énergetique (catalyse, PV, batteries, piles à combustibles, nucléaire, ..)
-
Transition numérique: (écrans, capteurs, micro-electronique, Qubits, ...)
Réacteur(s) ALD
- Annealsys
- Réacteur "home-made"
Publication n°1
" In situ ellipsometry study of the early stage of ZnO atomic layer deposition on In0. 53Ga0. 47As "
DOI : 10.1002/pssa.201900831
Publication n°2
" Gas‐Phase 3D Printing of Functional Materials. Advanced Materials Technologies "
DOI : 10.1002/admt.202000657
Publication n°3
" The initial stages of ZnO atomic layer deposition on atomically flat In 0.53 Ga 0.47 As substrates "
DOI : 10.1039/C8NR02440E
Autres personnes impliquées
- JIMENEZ Carmen
- BURRIEL Monica
- DESCHANVRES Jean-Luc
- RENEVIER Hubert
- MUNOZ-ROJAS David
- CONSONNI Vincent
- WEBER Matthieu