IMN

LOGO du laboratoire

IMN

Institut des Matériaux Jean Rouxel

CNRS / Université de Nantes

Multi-sites (se référer au site web)

Site web

Activités

  • Atomic Layer Etching
  • PE-ALD
  • PE-CVD avec gaz pulsés

Famille de matériaux

  • Nitrures
  • Oxydes
  • Sulfures

Applications

  • Catalyse
  • Énergie
  • Micro-électronique

Réacteur(s) ALD

Publication n°1

" Effect of growth interruptions on TiO2 films deposited by plasma enhanced chemical vapour deposition "

DOI : 10.1016/j.matchemphys.2016.07.049

Publication n°2

" In-situ Spectroscopic Ellipsometry Study of TiO2 Films Deposited by Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition "

DOI : 10.1016/j.apsusc.2013.06.091

Publication n°3

" X-ray photoelectron spectroscopy analysis of the effect of temperature upon surface composition of InP etched in Cl2-based inductively coupled plasma "

DOI : 10.1116/1.4862256

Contact pour le GDR RAFALD

GRANIER Agnès

Autres personnes impliquées

  • BESLAND Marie-Paule
  • CARDINAUD Christophe
  • GOULLET Antoine
  • RICHAR Mireille
  • TESSIER Pierre-Yves