Présentation du GdR

Le groupement a pour vocation de renforcer les liens des équipes de la communauté de l’ALD (Atomic Layer Deposition) et l’élargir vers des nouveaux utilisateurs, en mettant en commun leurs compétences, leurs savoir-faire, en organisant des actions de formation, en favorisant les échanges entre partenaires académiques et aussi industriels. Cette association vise à faire germer de nouveaux projets, proposer une vision des matériaux et procédés d’avenir dans un esprit « materials by design » à partir d’un cahier des charges des performances visées. Notre ambition est de rassembler les connaissances issues des différentes applications "historiques" (microélectronique, énergie) pour élargir vers d’autres domaines d’applications (biologie, santé, aéronautique, spatial …).

Les objectifs du GDR RAFALD se déclinent donc sur trois axes:

consolider le réseau, concrétiser les échanges et partager les connaissances et savoir-faire liés à la technique ALD.
s’ouvrir à l’extérieur et faire connaître la technique
veille scientifique et prospectives.

Le GDR2009 «RAFALD» est actuellement soutenu par plusieurs instituts du CNRS : rattachement principal à l'INC, avec le soutien de INSIS et INP via les équipes impliquées ou les sections du Comité National sollicitées (15, 11, 14, 8, 9, 10, 11, 3, 5). Il est subventionné par le CNRS, le CEA et des sponsors sollicités par les hôtes des événements organisés. Il est gouverné par un Bureau de 16 personnes. Il regroupe environ 160 personnes (dont 110 permanents) réparties dans 30 équipes d’unités CNRS, Universités, CEA, Écoles d'ingénieur, etc....

Le GDR se décline selon cinq axes principaux :

Croissance

Procédés Innovants et Transfert Industriel

Transition Energétique

Transition Numérique

Santé/Environnement