LTM
Laboratoire des Technologies de la Microélectronique
CNRS-CEA/LETI-UGA-Grenoble INP
CEA / LETI / Minatec -17, avenue des Martyrs -38054 Grenoble cedex 9
Activités
- Thermal ALD
- PE-ALD
- Atomic Layer Etching
- Area-Selective ALD
Famille de matériaux
- Oxydes
- Films métalliques
- Nitrures
Applications
- Transition numérique: (écrans, capteurs, micro-electronique, Qubits, ...)
Réacteur(s) ALD
- FlexAL Oxford Instruments + Cambridge nanotech Fiji
Publication n°1
" Area selective deposition using alternate deposition and etch super-cycle strategies "
DOI : 10.1039/D1DT03456A
Publication n°2
"
DOI : 10.1116/6.0000969
Publication n°3
" Low temperature Topographically Selective Deposition by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition with ion bombardment assistance "
DOI : 10.1116/6.0000649
Autres personnes impliquées
- BONVALOT Marceline