LPICM

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LPICM

Laboratoires de Physique des Interfaces et des Couches Minces

CNRS / École polytechnique

Bâtiment 406 - Route de SAclay - 91128 Palaiseau Cedex

Site web

Activités

  • Croissance

Famille de matériaux

  • Oxydes

Applications

  • Énergie

Réacteur(s) ALD

  • Picosun

Publication n°1

" Deleterious electrostatic interaction in silicon passivation stack between thin ALD Al2O3 and its a-SiNX:H capping layer: numerical and experimental evidences "

DOI : 10.1016/j.egypro.2017.09.328

Publication n°2

" Blistering of Al2O3 /a-SiNX:H stacks: analysis of the submerged part of the iceberg by colored picosecond acoustic microscopy "

Publication n°3

" Benefits of a thermal drift during atomic layer deposition of Al2O3 for c-Si passivation "

Contact pour le GDR RAFALD

Autres personnes impliquées

  • BULKIN Pavel