LPICM
Laboratoires de Physique des Interfaces et des Couches Minces
CNRS / École polytechnique
Bâtiment 406 - Route de Saclay - 91128 Palaiseau Cedex
Activités
- Thermal ALD
Famille de matériaux
- Oxydes
Applications
- Transition énergetique (catalyse, PV, batteries, piles à combustibles, nucléaire, ..)
- Transition numérique: (écrans, capteurs, micro-electronique, Qubits, ...)
Réacteur(s) ALD
- Picosun
Publication n°1
" Protective coatings for front surface silver mirrors by atomic layer deposition "
DOI : 10.1364/OE.388546
Publication n°2
" Detection of stable positive fixed charges in AlOx activated during annealing with in situ modulated photoluminescence "
Publication n°3
" Deleterious electrostatic interaction in silicon passivation stack between thin ALD Al2O3 and its a-SiNx:H capping layer: numerical and experimental evidences "
Personnes impliquées
- BULKIN Pavel