LGC
Laboratoire de Génie Chimique
Institut National Polytechnique de Toulouse
Multi-sites (se référer au site web)
Activités
- Thermal ALD
- Simulations et/ou modélisation
Famille de matériaux
- Oxydes
Applications
- Barrière à l'oxydation à haute température
Réacteur(s) ALD
- Modular Flow
Publication n°1
" Investigation of the initial deposition steps and the interfacial layer of Atomic Layer Deposited (ALD) Al2O3 on Si "
DOI : 10.1016/j.apsusc.2019.06.215
Publication n°2
" Amorphous alumina thin films deposited on carbon microfibers as interface layer for thermal oxidation barriers "
DOI : 10.1021/acsaenm.3c00448
Publication n°3
" DETAILED INVESTIGATION OF THE SURFACE MECHANISMS IN ALUMINA ATOMIC LAYER DEPOSITION FROM TMA AND WATER "
DOI : 10.1016/j.ces.2018.09.037
Personnes impliquées
- VERGNES Hugues
- CAUSSAT Brigitte
- SEKKAT Abderrahime