LAAS

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LAAS

Laboratoire d'Analyse et d'Architecture des Systèmes

CNRS

7, avenue du Colonel Roche -  BP 54200 - 31031 Toulouse Cedex 4

Site web

Activités

  • Thermal ALD
  • PE-ALD

Famille de matériaux

  • Oxydes

Applications

  • Transition énergetique (catalyse, PV, batteries, piles à combustibles, nucléaire, ..)

Réacteur(s) ALD

  • Veeco/Cambridge Nanotech
  • Sentech

Publication n°1

" Role of Trimethylaluminum in Low Temperature Atomic Layer Deposition of Silicon Nitride "

DOI : 10.1021/acs.chemmater.7b01816

Publication n°2

" Investigation of the initial deposition steps and the interfacial layer of Atomic Layer Deposited (ALD) Al 2 O 3 on Si "

DOI : 10.1016/j.apsusc.2019.06.215

Personnes impliquées

  • ESTEVE Alain
  • ROSSI Carole
  • SCHEID Emmanuel
  • IMBERNON Eric
  • DUBREUIL Pascal