LAAS
Laboratoire d'Analyse et d'Architecture des Systèmes
CNRS
7, avenue du Colonel Roche - BP 54200 - 31031 Toulouse Cedex 4
Activités
- Thermal ALD
- PE-ALD
Famille de matériaux
- Oxydes
Applications
- Transition énergetique (catalyse, PV, batteries, piles à combustibles, nucléaire, ..)
Réacteur(s) ALD
- Veeco/Cambridge Nanotech
- Sentech
Publication n°1
" Role of Trimethylaluminum in Low Temperature Atomic Layer Deposition of Silicon Nitride "
Publication n°2
" Investigation of the initial deposition steps and the interfacial layer of Atomic Layer Deposited (ALD) Al 2 O 3 on Si "
Personnes impliquées
- ESTEVE Alain
- ROSSI Carole
- SCHEID Emmanuel
- IMBERNON Eric
- DUBREUIL Pascal