LTM

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LTM

Laboratoire des Technologies de la Microélectronique

UGA / CNRS

CEA / LETI / Minatec -17, avenue des Martyrs -38054 Grenoble cedex 9

Site web

Activités

  • Atomic Layer Etching
  • Croissance
  • PE-ALD

Famille de matériaux

  • Métaux
  • Nitrures
  • Oxydes

Applications

  • Micro-électronique

Réacteur(s) ALD

  • Oxford

Publication n°1

" Selective deposition of Ta2O5 by adding plasma etching super-cycles in plasma enhanced atomic layer deposition steps "

DOI : 10.1116/1.4965966

Publication n°2

" On the mechanisms of cation injection in conducting bridge memories: The case of HfO2 in contact with noble metal anodes (Au, Cu, Ag) "

DOI : 10.1063/1.4943776

Publication n°3

" Understanding the mechanisms of interfacial reactions during TiO2 layer growth on RuO2 by atomic layer deposition with O2 plasma or H2O as oxygen source "

DOI : 10.1063/1.4960139

Contact pour le GDR RAFALD

NOM Prénom

Autres personnes impliquées

  • BONVALOT Marceline