IJL

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IJL

Institut Jean Lamour

Université de Lorraine / CNRS

Multi-sites (se référer au site web)

Site web

Activités

  • Thermal ALD
  • PE-ALD
  • Croissance, instrumentation in-situ

Famille de matériaux

  • Oxydes
  • Films métalliques

Applications

  • Transition énergetique (catalyse, PV, batteries, piles à combustibles, nucléaire, ..)
  • Transition numérique: (écrans, capteurs, micro-electronique, Qubits, ...)
  • Environnement (traitement de l'eau, de l'air, ..)

Réacteur(s) ALD

  • Picosun

Publication n°1

" Developments of TaN ALD Process for 3D Conformal Coatings "

DOI : 10.1002/cvde.201100045

Publication n°2

" Semi-Transparent p-Cu2O/n-ZnO Nanoscale-Film Heterojunctions for Photodetection and Photovoltaic Applications "

DOI : 10.1021/acsanm.9b00808

Publication n°3

" Local Structure and Point-Defect-Dependent Area-Selective Atomic Layer Deposition Approach for Facile Synthesis of p-Cu2O/n-ZnO Segmented Nanojunctions "

DOI : 10.1021/acsami.8b12584

Personnes impliquées

  • DE MELO Claudia
  • DESFORGES Alexandre
  • HORWAT David
  • MONTAIGNE François
  • PIERSON Jean-François