
IJL
Activités
- Thermal ALD
- PE-ALD
- Croissance, instrumentation in-situ
Famille de matériaux
- Oxydes
- Films métalliques
Applications
- Transition énergetique (catalyse, PV, batteries, piles à combustibles, nucléaire, ..)
- Transition numérique: (écrans, capteurs, micro-electronique, Qubits, ...)
- Environnement (traitement de l'eau, de l'air, ..)
Réacteur(s) ALD
- Picosun
Publication n°1
" Developments of TaN ALD Process for 3D Conformal Coatings "
DOI : 10.1002/cvde.201100045
Publication n°2
" Semi-Transparent p-Cu2O/n-ZnO Nanoscale-Film Heterojunctions for Photodetection and Photovoltaic Applications "
DOI : 10.1021/acsanm.9b00808
Publication n°3
" Local Structure and Point-Defect-Dependent Area-Selective Atomic Layer Deposition Approach for Facile Synthesis of p-Cu2O/n-ZnO Segmented Nanojunctions "
DOI : 10.1021/acsami.8b12584
Personnes impliquées
- DE MELO Claudia
- DESFORGES Alexandre
- HORWAT David
- MONTAIGNE François
- PIERSON Jean-François