C2N

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C2N

Centre de Nanosciences et de Nanotechnologies

INP / INSIS

Multi-sites (se référer au site web)

Site web

Activités

  • Croissance
  • PE-ALD

Famille de matériaux

  • Oxydes

Applications

Réacteur(s) ALD

  • Annealsys

Publication n°1

" An ultra-thin SiO2 ALD layer for void-free bonding of III–V material on silicon "

DOI : 10.1016/j.mee.2016.05.001

Publication n°2

Publication n°3

Contact pour le GDR RAFALD

LAFOSSE Xavier

Autres personnes impliquées

  • DURNEZ Alan
  • RAINERI Céline
  • MAUGUIN Olivia
  • BEAUDOIN Grégoire