LGC
Laboratoire de Génie Chimique
Institut National Polytechnique de Toulouse
Multi-sites (se référer au site web)
Activités
- Thermal ALD
- Simulations et/ou modélisation
Famille de matériaux
- Oxydes
Applications
- Barrière à l'oxydation à haute température
Réacteur(s) ALD
- Modular Flow
Publication n°1
" DETAILED INVESTIGATION OF THE SURFACE MECHANISMS IN ALUMINA ATOMIC LAYER DEPOSITION FROM TMA AND WATER "
DOI : 10.1016/j.ces.2018.09.037
Publication n°2
" COMPUTATIONAL FLUID DYNAMICS SIMULATION OF AN ALD REACTOR DEPOSITING ALUMINA FROM TMA AND H2O "
DOI : 10.1016/j.cherd.2018.02.031
Publication n°3
" RESTRICTING GROWTH INHIBITION AND SUBSTRATE OXIDATION DURING ALUMINA ALD ON Si: EFFECT OF N2-NH3 PLASMA SURFACE PRE-TREATMENT "
DOI : 10.1063/1.5113755
Personnes impliquées
- VERGNES Hugues
- CAUSSAT Brigitte