LGC

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LGC

Laboratoire de Génie Chimique

Institut National Polytechnique de Toulouse

Multi-sites (se référer au site web)

Site web

Activités

  • Thermal ALD
  • Simulations et/ou modélisation

Famille de matériaux

  • Oxydes

Applications

  • Barrière à l'oxydation à haute température

Réacteur(s) ALD

  • Modular Flow

Publication n°1

" DETAILED INVESTIGATION OF THE SURFACE MECHANISMS IN ALUMINA ATOMIC LAYER DEPOSITION FROM TMA AND WATER "
DOI : 10.1016/j.ces.2018.09.037

Publication n°2

" COMPUTATIONAL FLUID DYNAMICS SIMULATION OF AN ALD REACTOR DEPOSITING ALUMINA FROM TMA AND H2O "
DOI : 10.1016/j.cherd.2018.02.031

Publication n°3

" RESTRICTING GROWTH INHIBITION AND SUBSTRATE OXIDATION DURING ALUMINA ALD ON Si: EFFECT OF N2-NH3 PLASMA SURFACE PRE-TREATMENT "
DOI : 10.1063/1.5113755

Personnes impliquées

  • VERGNES Hugues
  • CAUSSAT Brigitte