LGC

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LGC

Laboratoire de Génie Chimique

Toulouse INP / CNRS

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Activités

  • Simulations

Famille de matériaux

  • Oxydes

Applications

  • Micro-électronique

Réacteur(s) ALD

Publication n°1

" Computational Fluid Dynamics simulation of the ALD of alumina from TMA and H2O in a commercial reactor "
DOI : 10.1016/j.cherd.2018.02.031

Publication n°2

" Detailed investigation of the surface mechanisms and their interplay with transport phenomena in alumina atomic layer deposition from TMA and water "
DOI : 10.1016/j.ces.2018.09.037

Publication n°3

" Ιn situ N2-NH3 plasma pre-treatment of silicon substrate enhances the initial growth and restricts the substrate oxidation during alumina ALD "
DOI : 10.1063/1.5113755

Contact pour le GDR RAFALD

CAUSSAT Brigitte

Autres personnes impliquées

  • VERGNES Hugues
  • GAKIS Giorgos