SALD

 

La SALD est une variante de l’ALD dans laquelle les précurseurs sont continuellement envoyés dans différentes emplacements (séparation de précurseurs dans l’espace), ce qui rend inutile l’étape de purge de l’ALD conventionnelle (avec des précurseurs séparés dans le temps). Cette approche se traduit par une vitesse de dépôt beaucoup plus grande que pour l’ALD conventionnelle (jusqu’à deux ordres de magnitude) et une plus grande flexibilité en termes de conception, en particulier compatible avec le processus de production à forte efficience comme la production en ligne ou roll-to-roll. Grâce à ces caractéristiques, la SALD a provoqué un grand intérêt pendant les dernières années, car elle pourrait permettre élargir ce type de dépôt, autant dans le domaine de la recherche que de l’industrie, à des multiples applications comme l’électronique, l’optoélectronique, le textile, le papier, etc.

Refs:

* D. Muñoz-Rojas and J. MacManus-Driscoll, Spatial atmospheric atomic layer deposition: a new laboratory and industrial tool for low-cost photovoltaics, Materials Horizons, 2014, 1, 314 DOI: 10.1039/C3MH00136A * CNRS / INC : En direct des laboratoires (Juin 2014)